عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
إختر اللغة
فارسی
English
العربی
تعداد ۱ پاسخ غیر تکراری از ۱ پاسخ تکراری در مدت زمان ۰,۶۷ ثانیه یافت شد.
1. بررسی اثر مشخصات پایه و اصلاح سطح بر ایجاد لایه مناسب غشای سیلیکایی
استناد
اطلاعات استناد دهی
BibTex (مخصوص کاربران)
RIS (مخصوص کاربران)
Endnote (مخصوص کاربران)
Refer (مخصوص کاربران)
Mark (مخصوص کتابخانه ها)
پدیدآورنده :
/امیر آقائی تازهکند
کتابخانه:
المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية
(
أذربایجان الشرقیة
)
موضوع :
جداسازی هلیوم,فناوری غشایی,غشای سیلیکایی,لایه سیلیکا-کبالت,اصلاح سطح پایه,جداسازی هلیوم، فناوری غشایی، غشای سیلیکایی، لایه سیلیکا-کبالت، اصلاح سطح پایه
رده :
»
1
«
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح